特許
J-GLOBAL ID：200903016321172848
スキャニング式レーザマーキング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-191590
公開番号（公開出願番号）：特開平10-015676
出願日： 1996年07月02日
公開日（公表日）： 1998年01月20日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 被加工物におけるマーキング位置の調整を簡単、迅速かつ正確に行えるようにする。【解決手段】 「パターン投射」モードに入ると、制御部はディスプレイの画面に表示されている起動No.を識別し(ステップA1 )、この起動No.に対応する描画データをメモリから検索する(ステップA2 )。マーキング速度(スキャニング速度)等の条件データについては「パターン投射」モード用の設定値を検索する(ステップA3 )。制御部はレーザ発信器をオフ状態にしたまゝHe-Neレーザを作動させ、ガイド光を点灯させる(ステップA4 )。上記検索した描画データ、条件データに応じたスキャニング制御信号をスキャニングヘッドに送り、被加工物表面上でガイド光のビームスポットを1回スキャンさせ、この起動No.によるパターンを描画し、スキャニング動作を他のコマンドが入力されるまで繰り返す(ステップA5 →A6 →A7 →A5 )。
請求項（抜粋）：
レーザ発振部からのマーキング用のレーザ光をスキャン・ミラーを介して被加工物に照射し、制御部からのスキャニング制御信号に応じてスキャニング手段により前記スキャン・ミラーを振らせて、前記被加工物の表面上で前記レーザ光のビームスポットをスキャンして、文字、記号または図形等からなる所望のパターンをマーキングするスキャニング式レーザマーキング装置において、前記マーキングの工程に先立ち、ガイド光発生手段からの可視性のガイド光を前記スキャン・ミラーを介して前記被加工物に照射し、前記制御部からのスキャニング制御信号に応じて前記スキャニング手段により前記スキャン・ミラーを振らせて、前記被加工物の表面上で前記ガイド光のビームスポットを連続的に繰り返しスキャンして、前記パターンとほぼ同一のパターンを有する投射像を形成するパターン投射像形成手段を備えたことを特徴とするスキャニング式レーザマーキング装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
B23K 26/00 B
, B23K 26/00 M
, B23K 26/02 A
