特許
J-GLOBAL ID：200903016323712700
液晶膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 喜平 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-214238
公開番号（公開出願番号）：特開平8-062558
出願日： 1994年08月16日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：
【要約】【目的】 基板の表面特性や材質の如何に拘らず、その上に薄い液晶膜を均一に形成することができる方法を提供する。【構成】 最終的に液晶膜を形成する基板A 1とは異なった、可撓性の基板B3上に特定の粘度を有する液晶材料10を製膜して、特定の厚さの液晶膜原体12、および必要に応じて液晶膜原体(II)13を形成し、次いでこの膜12、または13と基板A 1とを貼り合わせ、最後に基板A 1から基板B 3を剥離して基板A 1上に液晶膜11を形成する。
請求項（抜粋）：
液晶表示素子に用いられる基板上に液晶材料を製膜して、液晶膜を形成する方法において、(A)その上に液晶膜を形成する基板Aとは別異の、可撓性を有する基板B上に、20°Cにおける粘度が1×103 cP以上、1×106 cP以下である液晶材料を製膜して、その厚さが1μm以上、10μm以下の液晶膜原体を形成し、(B)この基板Bの液晶膜原体面と、基板Aとを貼り合わせ、(C)次いで、基板Aから基板Bを剥離して、基板A上に液晶膜を形成することを特徴とする液晶膜の形成方法。
IPC (2件)：
G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
