特許

J-GLOBAL ID：200903016350274536

洗浄液

発明者： 青木 秀充 ,  高島 正之
出願人/特許権者： 日本電気株式会社 ,  住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-114744
公開番号（公開出願番号）：特開2001-007072
出願日： 2000年04月17日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】 表面に、不純物の含有濃度が異なる複数の二酸化硅素からなる絶縁膜が露出している構造を有する基板を洗浄する洗浄液であって、効果的に汚染物が除去でき、かつ両絶縁膜間での凹凸を発生せず、よって平滑な洗浄面を提供し得る基板の洗浄液を提供する。【解決手段】 表面に、不純物の含有濃度が異なる複数の二酸化硅素からなる絶縁膜が露出している構造を有する基板を洗浄する洗浄液において、アルカリ性のアミン系有機化合物及び過酸化水素を含有する洗浄液。

請求項（抜粋）：

表面に、不純物の含有濃度が異なる複数の二酸化硅素からなる絶縁膜が露出している構造を有する基板を洗浄する洗浄液において、アルカリ性のアミン系有機化合物及び過酸化水素を含有する洗浄液。

IPC (5件)：

H01L 21/304 647 ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/32 ,  C11D 17/08 ,  H01L 21/306

FI (5件)：

H01L 21/304 647 A ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/32 ,  C11D 17/08 ,  H01L 21/306 D