特許
J-GLOBAL ID:200903016351046731
ガスバリヤー性高分子膜及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西川 繁明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-305836
公開番号(公開出願番号):特開平7-133360
出願日: 1993年11月11日
公開日(公表日): 1995年05月23日
要約:
【要約】【目的】 高度のガスバリヤー性と屈曲性を有するガスバリヤー性高分子膜、及びその製造方法を提供すること。【構成】 高分子膜の少なくとも一方の表面に、グラファイト化層が形成されていることを特徴とするガスバリヤー性高分子膜。高分子膜の少なくとも一方の表面からイオン注入して、グラファイト化層を形成することを特徴とするガスバリヤー性高分子膜の製造方法。
請求項(抜粋):
高分子膜の少なくとも一方の表面に、グラファイト化層が形成されていることを特徴とするガスバリヤー性高分子膜。
IPC (4件):
C08J 7/04
, B32B 9/00
, B32B 27/06
, B32B 27/18
前のページに戻る