特許
J-GLOBAL ID:200903016352813175
レジスト除去方法及びその装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
杉谷 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-352426
公開番号(公開出願番号):特開2000-183036
出願日: 1998年12月11日
公開日(公表日): 2000年06月30日
要約:
【要約】【課題】 粘着テープによって物品上のレジストパターンを確実に剥離除去することができるレジスト除去方法及びその装置を提供する。【解決手段】 前工程におけるエッチングによってウエハW上のレジストパターンの表面には、粘着テープの粘着剤との親和性の悪い難粘着層が不均一に形成される。搬送ユニット15は、ロボットアーム14によって、そのウエハWをカセットC1から搬出し、前処理ユニット3に挿入する。前処理ユニット3では、ウエハWに紫外線を照射して、レジストパターンの表面の難粘着層を改質・分解して、粘着テープの粘着剤との親和性を高める。そのウエハWは、搬送ユニット15によって、レジスト除去部2に搬送される。レジスト除去部2では、ウエハWに対して粘着テープを貼付/剥離して、ウエハW上のレジストパターンを確実に剥離除去する。
請求項(抜粋):
エッチング後の物品上のレジストパターンを粘着テープによって剥離除去するレジスト除去方法であって、前記エッチング時の反応ガスによって物品上のレジストパターンの表面に生成された難粘着層を改質・分解して、前記粘着テープの粘着剤との親和性を高める過程と、前記難粘着層が改質・分解された物品上のレジストパターンの表面に前記粘着テープを貼付ける過程と、前記貼付けられた粘着テープを前記物品から剥離して、レジストパターンを物品上から剥離除去する過程とを備えることを特徴とするレジスト除去方法。
IPC (3件):
H01L 21/3065
, G03F 7/42
, H01L 21/027
FI (3件):
H01L 21/302 H
, G03F 7/42
, H01L 21/30 572 Z
Fターム (9件):
2H096AA25
, 2H096AA26
, 2H096HA23
, 2H096LA01
, 5F004BD01
, 5F004BD07
, 5F004FA08
, 5F046MA18
, 5F046MA19
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