特許
J-GLOBAL ID：200903016358668584
静電チャック装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-088800
公開番号（公開出願番号）：特開平5-291562
出願日： 1992年04月09日
公開日（公表日）： 1993年11月05日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、信頼性,寿命の向上を図り得る静電チャック装置を提供することを目的とする。【構成】 金属製ステージ表面に第1の絶縁層を介して、同時に電界が印加されることのない、互いに分離してなる複数の電極からなる電極層と、この電極層の表面を覆う第2の絶縁層とを具備してなる静電チャック装置。【効果】 本発明によれば、キズ・ピンホール等による絶縁破壊を防止することができ、作動中において、静電電極の絶縁膜にキズ・ピンホール等が生じても静電的な吸着力を保持することができ、装置の信頼性、寿命の向上が図れる。
請求項（抜粋）：
真空容器と、該真空容器内に試料が載置される金属製ステージと対向して設置される高周波電極と、少なくとも1種以上の反応ガスを導入する手段とを有してなる半導体製造装置に於いて、上記金属製ステージ表面に第1の絶縁層を介して、同時に電界が印加されることのない、互いに分離してなる複数の電極からなる電極層と、該電極層の表面を覆う第2の絶縁層とを具備してなることを特徴とする静電チャック装置。
IPC (4件)：
H01L 29/68
, B23Q 3/15
, H01L 21/302
, H02N 13/00
