特許
J-GLOBAL ID:200903016381672670

パンチ・スルー遅延注入を使用した高電圧プレーナ・エッジ端末

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大貫 進介 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平2-418206
公開番号(公開出願番号):特開平5-211156
出願日: 1990年12月26日
公開日(公表日): 1993年08月20日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 比較的高いブレークダウン電圧を得ることのできる高電圧半導体を提供する。【構成】 高電圧半導体構造が複数のガードリング17a-17eを有する。主接合14から離れたガードリングどうしが、主接合に近いガードリングどうしよりも、互いに離れている。ガードリングとは反対導電型のエンハンスメント領域18がガードリングの間に形成されて、ガードリング間のパンチスルー電圧を増大させる。これにより、デバイスのブレークダウン電圧が増大する。エンハンスメント領域および狭いガードリング間隔S1-S4によって、細かな電圧変化と高いガードリング間パンチスルーブレークダウン電圧とが得られる。
請求項(抜粋):
主PN接合;前記主PN接合を取り囲む第1導電型のガード・リング;および前記主PN接合と前記ガード・リングとの間に形成される第2導電型のエンハンスメント領域;によって構成されることを特徴とする高電圧半導体構造。
IPC (3件):
H01L 21/331 ,  H01L 29/73 ,  H01L 29/784
FI (2件):
H01L 29/72 ,  H01L 29/78 321 S

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