特許

J-GLOBAL ID：200903016395919724

反射防止膜形成用組成物

発明者： 河口 和雄 ,  齋藤 明夫 ,  岩永 伸一郎
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-050883
公開番号（公開出願番号）：特開平11-249311
出願日： 1998年03月03日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 反射防止効果が高く、昇華性のない反射防止膜形成用組成物の提供。【解決手段】 反射防止膜形成用組成物は、アントラセン誘導体とアルデヒド類とを反応することにより得られる染料と樹脂と溶剤を含有する。ここでR1は一価の置換基でありそしてnは0〜9の数である、ただし、nが2〜9のときには複数のR1は同一でも異なっていてもよい。【効果】反射防果が高く、かつ昇華性がないため、ポジ型およびネガ型レジストと協働して、像度、精度等に優れたレジストパターンをもたらすことができる。したがって本発明の反射防止膜組成物は、特に高集積度の集積回路の製造に寄与するとが大である。

請求項（抜粋）：

下記式(1)【化1】ここで、R1は一価の置換基でありそしてnは0〜9の数である、ただし、nが2〜9のときには複数のR1は同一でも異なっていてもよい、で表されるアントラセン類とアルデヒド類との反応生成物である染料、樹脂および溶剤を含有することを特徴とする反射防止膜形成用組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/11 503 ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/027 ,  C09B 6/00

FI (4件)：

G03F 7/11 503 ,  G03F 7/004 506 ,  C09B 6/00 ,  H01L 21/30 574