特許

J-GLOBAL ID：200903016397563080

ルツボ洗浄乾燥装置

発明者： 高瀬 伸光 ,  松原 順一 ,  山岸 浩利 ,  蔵本 誠 ,  町田 倫久 ,  白石 裕 ,  高野 清隆 ,  飯田 哲広
出願人/特許権者： 株式会社スーパーシリコン研究所
代理人 (1件)： 佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-245442
公開番号（公開出願番号）：特開平10-072275
出願日： 1996年08月29日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：

【要約】【課題】 ルツボを汚染することなくルツボの洗浄と乾燥とを行えるルツボ洗浄乾燥装置を提供する。【解決手段】 内面を下方に伏せた状態のルツボを保持する載置台と、ルツボの全表面に対して流体を噴出させる流体噴出ノズルと、内部に載置台と流体噴出ノズルおよびルツボを保持する清浄空気が充填されたチャンバーと、洗浄液を貯留する液タンクと、清浄空気を貯留するエアタンクと、洗浄液又は清浄空気のいずれか一方を選択的に流体噴出ノズルに供給する選択手段とを備えてなる。

請求項（抜粋）：

多結晶半導体原料を溶融するために用いられるルツボを洗浄する装置であって、内面を下方に伏せた状態のルツボを保持する載置台と、前記ルツボの外面と内面とのそれぞれに向って流体を噴出させる流体噴出ノズルと、清浄空気が充填され、前記載置台と前記流体噴出ノズルおよび前記載置台上の前記ルツボを内包するチャンバーと、前記ルツボの洗浄液を貯留した液タンクと、乾燥のための清浄空気を貯留したエアタンクと、前記液タンク内の洗浄液又は前記エアタンク内の清浄空気のいずれか一方を選択的に流体噴出ノズルに供給する選択手段と、を備えていることを特徴とするルツボ洗浄乾燥装置。

IPC (6件)：

C30B 15/10 ,  B08B 3/02 ,  B08B 5/02 ,  C30B 11/00 ,  C30B 29/06 502 ,  F26B 9/00

FI (6件)：

C30B 15/10 ,  B08B 3/02 A ,  B08B 5/02 Z ,  C30B 11/00 C ,  C30B 29/06 502 B ,  F26B 9/00 E