レジストの除去方法及び基板の洗浄方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：阿仁屋節雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-211587
公開番号（公開出願番号）：特開平8-181050
出願日： 1988年02月29日
公開日（公表日）： 1996年07月12日
要約：

【要約】【課題】工程を極めて単純にし、基板破損のおそれを除去するとともに、廃液処理を著しく容易することができるレジストの除去方法及び基板の洗浄方法を提供す。【解決手段】リソグラフィー法を適用して微細パターンを形成する過程において基板表面に塗布されてパターン形成に使用された後に残存する使用済みの高分子化合物からなるレジストを、前記基板の少なくとも前記レジストが付着している部位を超臨界流体中に浸漬することにより除去する。また、リソグラフィー法によって微細パターンを形成した基板を、超臨界流体に浸漬することにより洗浄する。

請求項（抜粋）：

リソグラフィー法を適用して微細パターンを形成する過程において基板表面に塗布されてパターン形成に使用された後に残存する使用済みの高分子化合物からなるレジストを除去するレジストの除去方法において、前記レジストの除去は、前記基板の少なくとも前記レジストが付着している部位を超臨界流体中に浸漬することにより行うものであることを特徴としたレジストの除去方法。

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