特許
J-GLOBAL ID:200903016420399218

炭素材料の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三枝 英二 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-054962
公開番号(公開出願番号):特開平9-249405
出願日: 1996年03月12日
公開日(公表日): 1997年09月22日
要約:
【要約】【課題】高度に構造が制御された高品質なカルビン系炭素材料を、高収率で、安全かつ環境汚染を生じることなく、また高価な触媒などを必要とすることなく、工業的に製造しうる新しい方法を提供することを主な目的とする。【解決手段】炭素材料の製造方法であって、一般式XC≡CX (1)表されるアセチレン誘導体を、Mg、Zn、Alまたはこれらの金属を主成分とする合金を陽極とし、支持電解質単独或いは支持電解質と通電助剤の両者を溶解した非水系有機溶媒中において不活性ガス雰囲気下で行う電極還元反応に供することにより、一般式(-C≡C-)n (2)(式中、nは2〜1000000である)で示されるポリイン構造または、一般式(=C=C=)n (3)(式中、nは2〜1000000である)で示されるキュムレン構造を主鎖骨格の一部または全部に有する炭素材料を形成させることを特徴とする方法。
請求項(抜粋):
炭素材料の製造方法であって、一般式XC≡CX (1)(式中、Xは F、 Cl、 Br、 Iまたは Hを表す;Xは、それぞれ同一でもあるいは2つ以上が相異なっていてもよい。)で表されるポリオレフィン誘導体を、Mg、Zn、Alまたはこれらの金属を主成分とする合金を陽極とし、支持電解質単独或いは支持電解質と通電助剤の両者を溶解した非水系有機溶媒中において不活性ガス雰囲気下で行う電極還元反応に供することにより、一般式(-C≡C-)n (2)(式中、nは2〜1000000である)で示されるポリイン構造または、一般式(=C=C=)n (3)(式中、nは2〜1000000である)で示されるキュムレン構造を主鎖骨格の一部または全部に有する炭素材料を形成させることを特徴とする方法。
IPC (2件):
C01B 31/02 101 ,  C08G 61/04 NLF
FI (2件):
C01B 31/02 101 Z ,  C08G 61/04 NLF
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特表平6-505532
  • 特表昭64-500133
  • 特開平3-008706
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引用文献:
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