特許

J-GLOBAL ID：200903016424455546

イミダゾリジンに基づく金属カルベンメタセシス触媒

発明者： グラブス、ロバート エイチ. ,  ショール、マティアス
出願人/特許権者： カリフォルニア インスティチュート オブ テクノロジー
代理人 (1件)： 恩田 博宣 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-619810
公開番号（公開出願番号）：特表2003-500412
出願日： 2000年05月22日
公開日（公表日）： 2003年01月07日
要約：

【要約】本発明は、イミダゾリジンに基づいた配位子を備えた新規なメタセシス触媒、並びにその製造方法、及び使用方法に関する。本発明の触媒は化学式(I)【化43】を有し、ここで、Mはルテニウム又はオスミウムであり、X及びX1は、それぞれ独立してアニオン配位子であり、Lは、中性電子供与基であり、R、R1、R6、R7、R8、及びR9は、それぞれ独立して、水素、又はC1〜C20アルキル、C2〜C20アルケニル、C2〜C20アルキニル、アリール、C1〜C20カルボキシレート、C1〜C20アルコキシ、C2〜C20アルケニルオキシ、C2〜C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、C1〜C20アルキルチオール、アリールチオール、C1〜C20アルキルスルホニル、及びC1〜C20アルキルスルフィニルからなるグループから選択された置換基であり、該置換基は、C1〜C10アルキル、C1〜C10アルコキシ、アリール、及びヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カーバメート、及びハロゲンから選択される官能基からなるグループから選択される1つ以上の部分により随意に置換されている。公知のルテニウム、又はオスミウム触媒に対するイミダゾリジン配位子の含有は、これらの錯体の特性を劇的に改善することが判明した。本発明の触媒は、公知のルテニウム錯体に対する官能基耐性を維持しながら、従来のタングステンや、モリブデンの系に比較して優れた、改良されたメタセシス活性を有する。

請求項（抜粋）：

【化1】の化学式を有する化合物において、 Mはルテニウム又はオスミウムであり、 X及びX1は、それぞれ独立してアニオン配位子であり、 Lは、中性電子供与基であり、 R、R1、R6、R7、R8、及びR9は、それぞれ独立して、水素、又はC1〜C20アルキル、C2〜C20アルケニル、C2〜C20アルキニル、アリール、C1〜C20カルボキシレート、C1〜C20アルコキシ、C2〜C20アルケニルオキシ、C2〜C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、C1〜C20アルキルチオール、アリールチオール、C1〜C20アルキルスルホニル、及びC1〜C20アルキルスルフィニルからなるグループから選択された置換基であり、該置換基は、C1〜C10アルキル、C1〜C10アルコキシ、アリール、及びヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カーバメート、及びハロゲンから選択される官能基からなるグループから選択される1つ以上の部分により随意に置換されている化合物。

IPC (6件)：

C07F 15/00 ,  B01J 31/24 ,  C07C 67/475 ,  C07C 69/74 ,  C08G 61/00 ,  C07B 61/00 300

FI (7件)：

C07F 15/00 A ,  C07F 15/00 D ,  B01J 31/24 Z ,  C07C 67/475 ,  C07C 69/74 A ,  C08G 61/00 ,  C07B 61/00 300

Fターム (50件)：

4G069AA06 ,  4G069BA27A ,  4G069BA27B ,  4G069BC70A ,  4G069BC70B ,  4G069BC73A ,  4G069BE13A ,  4G069BE13B ,  4G069BE21A ,  4G069BE25A ,  4G069BE26A ,  4G069BE26B ,  4G069BE31A ,  4G069BE33A ,  4G069BE33B ,  4G069BE36A ,  4G069BE36B ,  4G069BE37A ,  4G069BE37B ,  4G069BE38A ,  4G069BE38B ,  4G069CB25 ,  4G069CB35 ,  4G069CB38 ,  4G069DA02 ,  4G069FA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AC29 ,  4H006BA22 ,  4H006BA23 ,  4H006BA47 ,  4H006BJ20 ,  4H039CA40 ,  4H039CE90 ,  4H039CL00 ,  4H050AA01 ,  4H050AB40 ,  4H050WB11 ,  4H050WB17 ,  4H050WB21 ,  4J032CA02 ,  4J032CA22 ,  4J032CA24 ,  4J032CA27 ,  4J032CA28 ,  4J032CA34 ,  4J032CA38 ,  4J032CD02 ,  4J032CE03 ,  4J032CE05

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 増強された紫外線耐性及び酸化耐性を有するポリオレフィン組成物及びそれらの生成方法及び使用法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-597326   出願人：アドバンストポリマーテクノロジーズインコーポレイテッド