特許

J-GLOBAL ID：200903016425882650

プラズマ処理装置

発明者： 大見 忠弘 ,  平山 昌樹 ,  須川 成利 ,  後藤 哲也
出願人/特許権者： 大見 忠弘 ,  東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2002003108
公開番号（公開出願番号）：WO2002-080249
出願日： 2002年03月28日
公開日（公表日）： 2002年10月10日
要約：

プラズマ処理装置は、外壁により画成され、被処理基板を保持する保持台を備えた処理容器と、前記処理容器に結合された排気系と、前記処理容器中にプラズマガスを供給するプラズマガス供給部と、前記処理容器上に、前記被処理基板に対応して設けられたマイクロ波アンテナと、前記保持台上の被処理基板と前記プラズマガス供給部との間に、前記被処理基板に対面するように設けられた処理ガス供給部とよりなり、前記処理ガス供給部は、前記処理容器内に形成されたプラズマを通過させる複数の第1の開口部と、処理ガス源に接続可能な処理ガス通路と、前記処理ガス通路に連通した複数の第2の開口部と、前記第2の開口部に対向して設けられ、前記第2の開口部より放出される処理ガスを拡散させる拡散部とを備えた構成する。

請求項（抜粋）：

外壁により画成され、被処理基板を保持する保持台を備えた処理容器と、 前記処理容器に結合された排気系と、 前記処理容器中にプラズマガスを供給するプラズマガス供給部と、 前記処理容器上に、前記被処理基板に対応して設けられたマイクロ波アンテナと、 前記保持台上の被処理基板と前記プラズマガス供給部との間に、前記被処理基板に対面するように設けられた処理ガス供給部とよりなり、 前記処理ガス供給部は、前記処理容器内に形成されたプラズマを通過させる複数の第1の開口部と、処理ガス源に接続可能な処理ガス通路と、前記処理ガス通路に連通した複数の第2の開口部と、前記第2の開口部に対向して設けられ、前記第2の開口部より放出される処理ガスを拡散させる拡散部とを備えたプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H01L21/205 ,  C23C16/455 ,  C23C16/511 ,  C23F4/00 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/46

FI (6件)：

H01L21/205 ,  C23C16/455 ,  C23C16/511 ,  C23F4/00 A ,  H05H1/46 B ,  H01L21/302 101D