特許

J-GLOBAL ID：200903016442894603

電解質溶液および鉛スズ層の製造方法

発明者： ゲルノット シュトルーベ ,  マンフレート ヨルダン
出願人/特許権者： ドクトル-インジニエール マックス シュレッター ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-598692
公開番号（公開出願番号）：特表2002-536554
出願日： 2000年02月11日
公開日（公表日）： 2002年10月29日
要約：

【要約】本発明は、鉛スズ層を製造するための酸性電解質溶液に関する。本発明による酸性電解質溶液は、アルキルスルホン酸、可溶性スズ塩、可溶性鉛塩および1つまたは複数のノニオン界面活性物質およびインヒビタとしての1つまたは複数のアニオン界面活性物質を含有する。本発明による方法は、電子部品に鉛スズ層包含する鉛スズ層を製造する手段を提供する。

請求項（抜粋）：

アルキルスルホン酸、可溶性スズ塩、可溶性鉛塩およびインヒビタを包含する鉛スズ層の製造のための酸性電解質溶液において、インヒビタとして1つまたは複数のノニオン界面活性物質が1つまたは複数のアニオン界面活性物質と共に使用されていることを特徴とする酸性電解質溶液。

Fターム (13件)：

4K023AB34 ,  4K023BA29 ,  4K023CB03 ,  4K023CB05 ,  4K023CB08 ,  4K023CB21 ,  4K023CB23 ,  4K023CB25 ,  4K023CB33 ,  4K023DA02 ,  4K023DA06 ,  4K023DA07 ,  4K023DA08