特許

J-GLOBAL ID：200903016447473223

光重合性組成物

発明者： 長坂 英樹 ,  村田 昌久 ,  浦野 年由
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-115723
公開番号（公開出願番号）：特開平8-314139
出願日： 1995年05月15日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：

【要約】【構成】 付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有する化合物および光重合開始系を含有する光重合性組成物であって、該光重合開始系が特定のベンジリデン系化合物およびそれとの共存下でラジカル発生を促す活性剤とを含有することを特徴とする。【効果】 本発明の光重合性組成物は、可視光に対して極めて高感度である。

請求項（抜粋）：

付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有する化合物および光重合開始系を含有する光重合性組成物において、該光重合開始系が(a)下記一般式〔I〕で表わされる増感剤【化1】(式中、R1 ,R2 ,R3 およびR4 は、独立に水素原子または炭素数10以下のアルキル基を示すが、R1 とR2 とは相互に連結してアルキレン基を形成してもよい。R5 およびR6 は、独立に水素原子、炭素数10以下のアルキル基、アルコキシ基またはアシルオキシ基を示す。YおよびZは、独立にシアノ基、置換基を有しても良いフェニル基、複素環残基、カルボキシル基、カルボアルコキシ基、カルバモイル基またはアシル基を表わし、mは0または1を示す。)および(b)該増感剤(a)と共存下、光照射時に活性ラジカルを発生し得る活性剤とを含むことを特徴とする光重合性組成物。