特許
J-GLOBAL ID：200903016450515999
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-216657
公開番号（公開出願番号）：特開平8-057296
出願日： 1994年08月17日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：
【要約】【目的】 処理チャンバの使用効率を向上させて単位時間当りの基板処理枚数を多くし、カセット内での複数枚の未処理基板の位置的なばらつきが基板の処理品質に影響することを無くし、カセット内への処理済み基板の挿入時に基板の位置ずれによる基板とカセットとの擦れでパーティクルが発生することを防止できる装置を提供する。【構成】 複数のカセットCを載置するロータリテーブル10を設け、上面に基板の外周形状に対応した配置で複数個のガイドピン40が植設されたアライメント用テーブル16を配設し、2つの基板移載用アーム26、32を有した基板移載機構14を設ける。
請求項（抜粋）：
複数枚の基板が収容されたカセットを載置するカセット載置テーブルと、このカセット載置テーブル上に載置されたカセットの各基板収容位置にそれぞれ基板が収容されているか否かを検知する基板センサと、下面が開口した処理チャンバと、基板を載置する基板載置面を有し、その基板載置面に載置された基板を前記処理チャンバ内へ、その下面開口を通して挿入し、かつ、処理チャンバの下面開口側を気密に閉塞する基板載置テーブルと、基板の移載を行なう基板移載手段とを備えてなるプラズマ処理装置において、前記カセット載置テーブルを、水平面内において鉛直軸回りに回転自在に支持され、かつ、複数個のカセットを、それぞれ基板出し入れ口が回転中心位置に対して外向きになるように載置する載置面を有したロータリテーブルとし、このロータリテーブルを回転させかつ所定角度位置で停止させるように駆動・制御するテーブル駆動・制御手段を設け、上面に、基板の外周形状に対応した配置で複数個のガイドピンが植設され、その上面に載置された基板の位置ずれを前記複数個のガイドピンで修正して、各基板を上面上の一定位置にそれぞれ揃えるアライメント用テーブルを併設し、前記基板移載手段を、前記カセット載置テーブル上に載置されたカセットから基板を取り出し、その基板を前記アライメント用テーブル上へ一旦移載してからもしくは直接に前記基板載置テーブルの基板載置面へ移載する第1の基板移載用アームと、前記基板載置テーブルの基板載置面から基板を受け取り、その基板を前記アライメント用テーブル上へ一旦移載してから前記カセット載置テーブル上のカセット内へ挿入する第2の基板移載用アームとから構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
B01J 19/08
, H01L 21/3065
, H01L 21/68
