位相型計算機ホログラム及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：日比谷征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-312481
公開番号（公開出願番号）：特開2000-200024
出願日： 1999年11月02日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】形状精度の良い位相型計算機ホログラムを提供する。【解決手段】ホログラムの設計値に対してホログラムの少なくとも一部の領域について各セルの位相飛びの評価を行い、位相飛びが所定値より大きいセルがある場合には、領域内のセルの位相値を2π増やすか或いは2π減らす操作によって領域内での位相飛びを最小化する。

請求項（抜粋）：

光の波面の互いに異なる複数の部分に所定の位相を与える複数のセルを有し、これら複数のセルの位相飛びはπ以下になるようにしたことを特徴とする位相型計算機ホログラム。

IPC (3件)：

G03H 1/08 , G02B 5/32 , G03H 1/22

FI (3件)：

G03H 1/08 , G02B 5/32 , G03H 1/22

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