特許

J-GLOBAL ID：200903016463463289

整髪剤用基剤

発明者： 土橋 浩二 ,  内山 雄二朗
出願人/特許権者： 大阪有機化学工業株式会社
代理人 (1件)： 朝日奈 宗太 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-256261
公開番号（公開出願番号）：特開2001-081018
出願日： 1999年09月09日
公開日（公表日）： 2001年03月27日
要約：

【要約】【課題】 毛髪に対する付着性にすぐれ、フレーキング現象を起こさず、毛髪にすぐれた光沢、しなやかさおよびとくにすぐれた滑り感を付与し、かつ良好なセット保持力を有する整髪剤用基剤を提供すること。【解決手段】 ポリシロキサン化合物の存在下に、一般式(I):【化9】(式中、Xは酸素原子またはNH基、R1は水素原子またはメチル基、R2は炭素数2〜3のアルキレン基を示す)で表わされるモノマー(A)およびエチレン性不飽和カルボン酸エステル(B)を含有したモノマー成分をブロック共重合させて得られたブロック共重合体からなる整髪剤用基剤。

請求項（抜粋）：

ポリシロキサン化合物の存在下に、一般式(I):【化1】(式中、Xは酸素原子またはNH基、R1は水素原子またはメチル基、R2は炭素数2〜3のアルキレン基を示す)で表わされるモノマー(A)およびエチレン性不飽和カルボン酸エステル(B)を含有したモノマー成分をブロック共重合させて得られたブロック共重合体からなる整髪剤用基剤。

IPC (3件)：

A61K 7/11 ,  C08F283/12 ,  C08F293/00

FI (3件)：

A61K 7/11 ,  C08F283/12 ,  C08F293/00

Fターム (18件)：

4C083AC102 ,  4C083AC172 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD151 ,  4C083AD152 ,  4C083CC32 ,  4C083DD08 ,  4C083EE07 ,  4C083EE25 ,  4C083FF01 ,  4J026AB44 ,  4J026BA27 ,  4J026BA39 ,  4J026HA11 ,  4J026HA20 ,  4J026HA22 ,  4J026HA46

引用特許：

審査官引用 (3件)

• シリコン含有ブロックコポリマー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-352339   出願人：和光純薬工業株式会社
• 水溶性整髪用樹脂組成物およびその製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-189683   出願人：大阪有機化学工業株式会社
• 特開平4-316508