ジベンゾフラン誘導体の製造法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-322910
公開番号（公開出願番号）：特開2003-128662
出願日： 2001年10月22日
公開日（公表日）： 2003年05月08日
要約：

【要約】【課題】リンデロール Aの全合成法を改良し、以て収率を向上させる。【解決手段】一般式(II)に表される化合物を原料とし、前記一般式(II)に表される化合物にアルケンを光化学反応により化合させて一般式(III)に表される化合物と為し、これをトリメチルスルホニウムヨージドと水素化ナトリウムで処理し、一般式(IV)と為し、これを接触還元することを特徴とする、一般式(I)に表されるジベンゾフラン誘導体の製造法を提供する。【化1】一般式(II)【化2】一般式(III)【化3】一般式(IV)【化4】一般式(I)

請求項（抜粋）：

一般式(I)に表されるジベンゾフラン誘導体の原料となる一般式(IV)の製造法であって、一般式(II)に表される化合物を原料とし、前記一般式(II)に表される化合物にアルケンを光化学反応により化合させて一般式(III)に表される化合物と為し、これをトリメチルスルホニウムヨージドと水素化ナトリウムで処理することを特徴とする、一般式(IV)に表されるジベンゾフラン誘導体の製造法。【化1】一般式(II)(但し、式中Wは炭素数1〜4のアルキルオキシカルボニル基、炭素数1〜4のアルキルカルボニル基、フェニルカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を表し、R1、R2、R3、R4はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルキルオキシ基をあらわす。)【化2】一般式(III) (但し、式中W、R1、R2、R3、R4は一般式(II)と同じ基を表し、Rは水素原子、炭素原子が複素原子で置換されていても良いフェニル基、炭素数1〜4のアルキル基又は(C1〜4)アシルオキシアルキル(C1〜4)基を表す。)【化3】一般式(IV)(但し、式中W、R1、R2、R3、R4、Rはそれぞれ、一般式(II)、一般式(III)と同じ基を表す。)【化4】一般式(I)(但し、式中R1、R2、R3、R4、Rはそれぞれ、一般式(III)、一般式(IV)と同じ基を表す。)

IPC (4件)：

C07D307/91 , C07D311/94 , C07D405/04 , C07D407/06

FI (4件)：

C07D307/91 , C07D311/94 , C07D405/04 , C07D407/06

Fターム (10件)：

4C037AA02 , 4C037SA04 , 4C062HH01 , 4C063AA01 , 4C063BB02 , 4C063BB03 , 4C063CC76 , 4C063CC79 , 4C063DD12 , 4C063EE05

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