特許

J-GLOBAL ID：200903016467913149

乱数を用いて統計的に計算する方法及びそれを用いた濃度分布の測定方法

発明者： 羽根 正巳 ,  池澤 健夫
出願人/特許権者： 株式会社エヌイーシー情報システムズ ,  日本電気株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-188608
公開番号（公開出願番号）：特開平11-037961
出願日： 1997年07月14日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：

【要約】【課題】 測定方法に起因する原理的な測定誤差要因を含んだ測定結果から、その誤差を取り除き、より真に近い濃度分布を得る濃度分布の測定方法を提供する。【解決手段】 本発明の濃度分布の測定方法は、測定対象物にイオン、中性原子、または分子状の1次ビームを照射して、測定対象物から放出される、2次イオンまたは中性粒子をカウントする濃度分布の測定方法において、測定対象不純物の仮想的なデルタ関数分布に対し、1次ビームを照射する或る時間に放出される2次イオンまたは粒子の数を、原子間ポテンシャルと固体中のエネルギー損失の式および本発明の乱数を用いて統計的に計算する方法を用いて計算した結果と、実際の測定値とを逆畳み込み積分することにより、濃度分布を得る。

請求項（抜粋）：

測定対象物にイオン、中性原子、または分子状の1次ビームを照射して、前記測定対象物から放出される、測定対象元素の2次イオンまたは粒子の数の計算、および、前記測定対象元素の位置のずれを、乱数を用いて統計的に計算する方法において、前記1次ビームを照射されることで前記1次ビームを構成する元素を内部に含む測定対象物中の、微量な測定対象元素に対し、計算途中での散乱確率を、前記測定対象元素の存在比に依存して増大させ、同時に、同じ割合で計算上の重みを前記測定対象元素の存在比に依存して減少させることを特徴とする乱数を用いて統計的に計算する方法。

IPC (3件)：

G01N 23/225 ,  H01J 37/244 ,  H01J 37/252

FI (3件)：

G01N 23/225 ,  H01J 37/244 ,  H01J 37/252 B