特許
J-GLOBAL ID：200903016470104120
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮本 治彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-223149
公開番号（公開出願番号）：特開平9-107015
出願日： 1996年08月05日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：
【要約】【課題】昇降機等によって装置内が汚染されることを防止できる基板処理装置を提供する【解決手段】ウェーハ搬送室50の壁53に複数の反応室70を積層して設ける。ウェーハ搬送室50の壁54にウェーハ収容室30を設ける。カセット10を保持するカセット棚11を設ける。ウェーハ搬送室50を真空引きできるように構成し、その内部にはウェーハ搬送真空ロボット60を設ける。ウェーハ搬送室50の底面56に貫通孔57を設ける。ウェーハ搬送室50の外部の下側にはボールねじ(ねじ軸561、ナット565)を設ける。ナット565に昇降台564を固定し、昇降台564にウェーハ搬送真空ロボット支持棒563の一端を固定し、その他端はウェーハ搬送真空ロボット60に固定する。ベロー562の両端を気密に固定する。
請求項（抜粋）：
減圧可能な基板搬送室と、前記基板搬送室の第1の側壁に鉛直方向に積み重ねられて設けられた複数の基板処理室と、前記複数の基板処理室と前記基板搬送室との間にそれぞれ設けられた複数の第1のバルブであって、閉じた場合には前記基板処理室と前記基板搬送室との間を真空的に気密にすることができ、開いた場合には基板がその内部を通って移動可能な複数の第1のバルブと、前記基板搬送室の第2の側壁に設けられた基板収容室と、前記基板搬送室内に設けられた基板搬送機であって、前記基板処理室と前記基板収容室との間で前記基板を減圧下で搬送可能な基板搬送機と、前記基板搬送室の外部に設けられた昇降手段であって、固定部と前記固定部に対して昇降可能な昇降部とを有する昇降手段と、前記基板搬送室の所定の面に設けられた貫通孔内を移動可能な剛体の接続部材であって、前記昇降部と前記基板搬送機とを前記貫通孔を介して機械的に接続する接続部材と、前記所定の面と前記所定の面の前記貫通孔を貫通する前記接続部材との間を真空的に気密に保つ気密部材と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/68
, H01L 21/22 511
H01L 21/68 A
, H01L 21/22 511 J
