特許

J-GLOBAL ID：200903016480801767

露光方法及び転写成形用型の製造方法

発明者： 和泉 真浩
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 飯阪 泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-032689
公開番号（公開出願番号）：特開2002-236369
出願日： 2001年02月08日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：

【要約】【課題】 鏡面状態にある被加工面に対し高い解像度でマスクパターンを形成でき、自動かつ高精度なマスクパターン検査を可能とする露光方法及び転写成形用型の製造方法を提供すること。【解決手段】 被加工面21aと感光膜23との間に、露光光(紫外光)を吸収する皮膜22を介在させる。皮膜22は赤色アクリル樹脂塗料膜からなり、感光膜23はジアゾ系の濃紺色を呈するものを用いる。これにより、露光光は感光膜23を感光後、被加工面21aへ到達する前に皮膜22により吸収され、露光かぶりが防止される。また、皮膜22が感光膜23の色調とコントラストが得られる色調であるため、光学認識方式の自動外観装置を用いてマスクパターン23Aの検査を高精度に行うことが可能となる。

請求項（抜粋）：

被加工面を被覆する感光膜に対して露光光を照射し、前記被加工面に所定のマスクパターンを形成する露光方法において、前記被加工面と前記感光膜との間に、前記露光光を吸収する吸収層を介在させることを特徴とする露光方法。

IPC (6件)：

G03F 7/11 503 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/304 601 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/10

FI (6件)：

G03F 7/11 503 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/304 601 S ,  H05K 3/00 G ,  H05K 3/10 E

Fターム (23件)：

2H025AA02 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025CC11 ,  2H025DA34 ,  2H096AA30 ,  2H096BA01 ,  2H096CA06 ,  2H096CA16 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096LA02 ,  2H096LA30 ,  5E343AA01 ,  5E343AA11 ,  5E343BB03 ,  5E343BB21 ,  5E343BB72 ,  5E343DD01 ,  5E343ER49 ,  5E343FF26 ,  5E343GG11