特許
J-GLOBAL ID：200903016483171055
薄膜形成方法および薄膜形成装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-215954
公開番号（公開出願番号）：特開平8-071489
出願日： 1994年09月09日
公開日（公表日）： 1996年03月19日
要約：
【要約】【目的】 薄膜の形成方法および薄膜の形成装置に関するもので、MOD溶液、ゾルゲル溶液、樹脂を含む溶液、および金属粒子を含む溶液を媒体上に吐出することができ、媒体上にそれらの材料の薄膜を形成することを目的とする。【構成】 薄膜形成材料と前記薄膜形成材料を良好に溶解する溶媒とを含み比抵抗が105Ωcm以上の溶液状物質を吐出用ノズル内に案内する工程と、ノズルの軸線方向に被形成部材を設置する工程と、前記ノズル内の溶液状物質に対して前記ノズルの軸線方向に静電力を作用させて前記ノズルから被形成部材に向かって前記溶液状物質を曳糸状で吐出する工程とを有する薄膜形成方法、およびこの薄膜形成方法の実施に最適な薄膜形成装置である。
請求項（抜粋）：
薄膜形成材料と前記薄膜形成材料を溶解する溶媒とを含み比抵抗が105Ωcm以上の溶液状物質を吐出用のノズル内に案内する工程と、前記ノズルの軸線方向に被形成部材を設置する工程と、前記ノズル内の溶液状物質に対して前記ノズルの軸線方向に静電力を作用させて前記ノズルから被形成部材に向かって前記溶液状物質を曳糸状で吐出する工程とを有する薄膜形成方法。
IPC (3件)：
B05D 1/04
, B05B 5/025
, C23C 26/00
