特許

J-GLOBAL ID：200903016485604137

光ディスクの製造方法

発明者： 井上 大輔 ,  松原 克夫 ,  野川 修一
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-309213
公開番号（公開出願番号）：特開平6-139627
出願日： 1992年10月22日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：

【要約】【目的】 アルミニウム反射膜の形成方法を改良することによって、情報の再生に600nm以下の波長のレーザ光を用いても媒体ノイズが小さく、従ってSN比の高い光ディスクを得ることができる製造方法を提供する。【構成】 真空容器10内において、イオン源18から引き出した不活性ガスイオンビーム20によってアルミニウムターゲット14をスパッタリングし、それによって発生するアルミニウム粒子22を基板4の表面に堆積させてアルミニウム反射膜を形成する。しかもこのときの不活性ガスイオンビーム20のエネルギーを、200eV〜5000eVの範囲内にする。

請求項（抜粋）：

透明な基板の表面にアルミニウム反射膜を形成して、情報の再生に600nm以下の波長のレーザ光を用いる光ディスクを製造する方法において、真空雰囲気中で、アルミニウム原子1個当り15eV〜140eVのエネルギーを持つアルミニウム粒子を前記基板の表面に堆積させて前記アルミニウム反射膜を形成することを特徴とする光ディスクの製造方法。