特許
J-GLOBAL ID：200903016492447861
マイクロエレクトロニクス基板洗浄用のpH調整された、非イオン性表面活性剤含有アルカリ性クリーナー組成物
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐々井 克郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-115235
公開番号（公開出願番号）：特開平7-297158
出願日： 1995年04月18日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：
【要約】【目的】 本発明の目的は、マイクロエレクトロニクス基板の洗浄用組成物を提供することである。【構成】 組成物は、無金属イオンの塩基、非イオン性表面活性剤、及びおよそ8と10の間の範囲内に洗浄液のpHを下げる又は調節するための成分からなる。洗浄用組成物で洗浄しても基板の表面は滑らかなまま保たれる。
請求項（抜粋）：
無金属イオンの塩基水溶液、非イオン性表面活性剤、及び洗浄液のpHを約pH 8〜約pH 10の範囲内のpHに下げる又は調整するための有効量のpH低下化学成分を含む、マイクロエレクトロニクス基板用のアルカリ性洗浄液。
IPC (6件)：
H01L 21/304 341
, C11D 10/02
, H01L 21/308
, C11D 1:66
, C11D 7:06
, C11D 7:32
