特許

J-GLOBAL ID：200903016503664436

フォトレジストの露光方法

発明者： 小野 明史 ,  江部 宏樹
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-187454
公開番号（公開出願番号）：特開平10-031314
出願日： 1996年07月17日
公開日（公表日）： 1998年02月03日
要約：

【要約】【課題】 フォトレジストに3次元のパターンを形成することができるフォトレジストの露光方法を提供する。【解決手段】 光ビームを走査してフォトレジストに所定パターンを露光する際に、光強度変調器を用いて、走査中の光ビームの強度を変化させ、これにより、フォトレジストの露光深さを所定パターン内において変化させる。

請求項（抜粋）：

光ビームを走査してフォトレジストに所定パターンを露光する際に、光ビームを走査中に当該光ビームの強度を変化させて、フォトレジストの露光深さを所定パターン内において変化させることを特徴とするフォトレジストの露光方法。

IPC (2件)：

G03F 7/20 505 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/20 505 ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 516 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-116321
  
• 特開昭61-116321