特許

J-GLOBAL ID：200903016507946002

円偏光制御素子の製造方法および円偏光制御素子

発明者： 荒井 政年
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-119565
公開番号（公開出願番号）：特開2002-311244
出願日： 2001年04月18日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：

【要約】【課題】 反射波長帯域が広く、製品としての安定性が高い、円偏光制御光学素子、およびその生産効率のよい製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 基体11、配向膜12からなる基材13上に、重合性ネマチック液晶とカイラル剤とからなる液晶層(1)14を積層し、紫外線等の照射により、液晶層(1)14を硬化させ、続いて、カイラル剤を液晶層(1)14よりも減らした液晶層(2)15を積層して未硬化のまま保持し、カイラル剤を移行させて液晶層(2)15中のカイラル剤濃度に連続的勾配を生じさせた後、液晶層2を紫外線等の照射により、液晶層(2)15を硬化させて、光学素子とした。液晶層(2)15は別の基材に積層して、液晶層(1)14上にラミネートしてもよい。

請求項（抜粋）：

カイラル剤とネマチック液晶とが配合され、少なくとも前記ネマチック液晶が電離放射線硬化性であり、前記カイラル剤の配合割合が異なる第1および第2のカイラルネマチック液晶組成物を準備し、透明基材の上に、前記第1のカイラルネマチック液晶組成物からなる第1の塗膜層を積層し、前記第1の塗膜層に電離放射線を照射して硬化させて第1の硬化層を形成した後、前記第1の硬化層上に、前記第2のカイラルネマチック液晶組成物からなる第2の塗膜層を積層し、積層後、前記第2の塗膜層を未硬化の状態で保持することにより、第1の硬化層と第2の塗膜層との間で、前記カイラル剤の移動を起こさせて、前記第2の塗膜層中に前記カイラル剤の濃度の連続的勾配を生じさせた後、前記前記第2の塗膜層に電離放射線を照射して硬化させることを特徴とする円偏光制御素子の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/1335 510

FI (3件)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/1335 510

Fターム (14件)：

2H049BA03 ,  2H049BA43 ,  2H049BB03 ,  2H049BB44 ,  2H049BC03 ,  2H049BC04 ,  2H049BC05 ,  2H049BC22 ,  2H088EA47 ,  2H088MA20 ,  2H091FA08Z ,  2H091FB02 ,  2H091FD06 ,  2H091FD11