特許
J-GLOBAL ID：200903016508834291
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-270147
公開番号（公開出願番号）：特開平11-106042
出願日： 1997年10月02日
公開日（公表日）： 1999年04月20日
要約：
【要約】【課題】 構成が簡単で安価となり、基板の割れなどの損傷や基板面へのパーティクルの付着を大幅に抑制する。【解決手段】 基板搬送装置3は基板2の被処理面に垂直な方向に搬送するのではなく基板2の被処理面に沿った方向へ搬送するようになっている。また、クリーンルーム内では、パーティクルの浮遊を防止するべくダウンフローFを積極的に利用しているが、各工程における吸着ステージ43で基板2を鉛直または傾斜姿勢で保持しつつ基板搬送装置3による各工程間の基板2の搬送や各工程による各種処理を行っている。さらに、熱処理部6〜8,10,11では、同一処理を施す複数の処理部を有しており、1つの処理工程内に基板2を長い処理時間プール可能となってより短い処理タクトで搬送時間を制御することができる。
請求項（抜粋）：
基板を鉛直または傾斜姿勢で保持しつつ搬送して基板に所定の処理を施す基板処理装置において、基板を鉛直または傾斜姿勢で保持して少なくとも同一処理を施す複数の処理部を有する処理手段と、この処理手段に基板を受渡しするべく、基板を鉛直または傾斜姿勢で保持しその基板面に沿った方向へ搬送する搬送手段と、前記複数の処理部を前記搬送手段による搬送方向に対して交差する方向へ移動させる移動手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
B65G 49/07
, B05C 13/02
, G02F 1/00
, H01L 21/027
B65G 49/07 C
, B05C 13/02
, G02F 1/00
, H01L 21/30 502 J
