特許
J-GLOBAL ID:200903016518295461
電磁波遮蔽膜およびその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
内田 幸男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-034359
公開番号(公開出願番号):特開平6-232586
出願日: 1993年01月29日
公開日(公表日): 1994年08月19日
要約:
【要約】【構成】 透明基板上に形成された電磁波遮蔽膜であって、酸化インジウム、酸化スズおよび/または酸化アンチモンを主成分とする平均粒径30〜5,000オングストロームの導電性微粒子50〜100重量部と樹脂バインダー0〜100重量部とからなり、10μm以下の厚さを有する膜。この膜は、該導電性微粒子と樹脂バインダーと分散媒とからなる液状組成物を透明基板上に塗布し、硬化することにより作成される。【効果】 塗布法により、比較的簡易に作成することができ、且つ、良好な透明性と電磁波遮蔽性能を有する。
請求項(抜粋):
酸化インジウム、酸化スズおよび酸化アンチモンの中から選ばれた少くとも一種を主成分とする平均粒径30〜5,000オングストロームの導電性微粒子50〜100重量部と樹脂バインダー0〜100重量部とからなり、10μm以下の厚さを有することを特徴とする、透明基板上に形成された電磁波遮蔽膜。
IPC (3件):
H05K 9/00
, H01B 5/14
, H01F 1/00
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭62-170330
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特開昭62-066931
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