特許

J-GLOBAL ID：200903016521441657

ウェーハ研磨装置及び研磨定盤調整装置

発明者： 稲葉 高男 ,  沼本 実 ,  酒井 謙児
出願人/特許権者： 株式会社東京精密
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-318926
公開番号（公開出願番号）：特開2000-141205
出願日： 1998年11月10日
公開日（公表日）： 2000年05月23日
要約：

【要約】【課題】 研磨布のコンディショニング処理による研磨動作の中断時間を低減して、ウェーハ研磨装置のスループットを向上させる。【解決手段】 定盤回転台11と、定盤回転台に着脱可能で定盤回転台と一緒に回転する、表面に研磨布14が設けられた研磨定盤13と、ウェーハ100 を保持してウェーハの表面を研磨布に押し付けながら回転するウェーハ保持ヘッド21とを備えるウェーハ研磨装置であって、研磨定盤13が着脱可能であり、研磨定盤が取り付けられた状態で回転する調整用回転台31と、調整用回転台に取り付けられた状態で回転する研磨定盤の前記研磨布の状態を調整する研磨布コンディショナ32とを備える。

請求項（抜粋）：

定盤回転台と、該定盤回転台に着脱可能で前記定盤回転台と一緒に回転する、表面に研磨布が設けられた研磨定盤と、ウェーハを保持して該ウェーハの表面を前記研磨布に押し付けながら回転するウェーハ保持ヘッドとを備えるウェーハ研磨装置であって、前記研磨定盤が着脱可能であり、前記研磨定盤が取り付けられた状態で回転する調整用回転台と、該調整用回転台に取り付けられた状態で回転する前記研磨定盤の前記研磨布の状態を調整する研磨布コンディショナとを備えることを特徴とするウェーハ研磨装置。

IPC (2件)：

B24B 37/00 ,  H01L 21/304 622

FI (2件)：

B24B 37/00 A ,  H01L 21/304 622 M

Fターム (10件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA12 ,  3C058AA15 ,  3C058AA19 ,  3C058AB04 ,  3C058AC01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17