特許

J-GLOBAL ID：200903016526637789

1,4-シクロヘキサンジメタノールの製造法

発明者： 辻 博史 ,  岡崎 巧 ,  東 憲治
出願人/特許権者： 荒川化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-034383
公開番号（公開出願番号）：特開平6-228028
出願日： 1993年01月29日
公開日（公表日）： 1994年08月16日
要約：

【要約】【構成】 テレフタル酸ジアルキルを水素化して1,4-シクロヘキサンジメタノールを製造する方法において、前記テレフタル酸ジアルキルのエステル部位を、担体上にロジウムおよび/またはルテニウムとスズを担持させた触媒を用いて水素化して1,4-シクロヘキサンジメタノールを製造する。【効果】 銅-クロム系触媒を使用した場合に比べて作業環境が大幅に改善され、反応中触媒が析出することもない。反応圧力が低圧になることから、エステル部位の水素化を効率よく行うことができ、安全性、設備費のコストダウンが図れる。一段階反応により、水素化した場合には反応工程を短縮できる。

請求項（抜粋）：

テレフタル酸ジアルキルを水素化して1,4-シクロヘキサンジメタノールを製造する方法において、前記テレフタル酸ジアルキルのエステル部位を、担体上にルテニウムおよび/またはロジウムとスズを担持させた触媒を用いて水素化することを特徴とする1,4-シクロヘキサンジメタノールの製造法。

IPC (5件)：

C07C 31/27 ,  B01J 23/62 ,  C07C 29/149 ,  C07C 29/20 ,  C07B 61/00 300