特許

J-GLOBAL ID：200903016530018856

ウエハボート

発明者： 加藤 寿 ,  高槻 浩一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-044286
公開番号（公開出願番号）：特開平9-213647
出願日： 1996年02月06日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：

【要約】【課題】 ガス流に対する支柱や支持つめ部の影響をより少なくして膜厚の面内均一性を改善することができるウエハボートを提供する。【解決手段】 縦型熱処理炉14内で熱処理すべき複数の半導体ウエハWを所定のピッチで支持するために、複数のリング状の載置台8と、これらの載置台を所定の間隔で固定する複数の支柱2と、前記各載置台の内周縁部に設けられてこの載置台よりも僅かに上方へ突出されると共に載置台の半径方向内側へ僅かな長さだけ突出されてその端部に前記半導体ウエハの周縁部下面と接触して支持する複数の支持つめ部10とを有するウエハボートにおいて、前記ウエハの搬入搬出側とは反対側であって、前記支柱間の前記リング状の載置台の内側端部にガス流を抑制するためのガス抑制凸部54A〜54Dを形成し、前記支持つめ部を設けた前記載置台の内側端部にガス流を促進するためのガス切り欠き部56A〜56Cを形成するように構成する。これにより、支柱と支持つめ部とのガス流に対する悪影響をそれぞれ相殺する。

請求項（抜粋）：

縦型熱処理炉内で熱処理すべき複数の半導体ウエハを所定のピッチで支持するために、複数のリング状の載置台と、これらの載置台を所定の間隔で固定する複数の支柱と、前記各載置台の内周縁部に設けられてこの載置台よりも僅かに上方へ突出されると共に載置台の半径方向内側へ僅かな長さだけ突出されてその端部に前記半導体ウエハの周縁部下面と接触して支持する複数の支持つめ部とを有するウエハボートにおいて、前記ウエハの搬入搬出側とは反対側であって、前記支柱間の前記リング状の載置台の内側端部にガス流を抑制するためのガス抑制凸部を形成し、前記支持つめ部を設けた前記載置台の内側端部にガス流を促進するためのガス切り欠き部を形成するように構成したことを特徴とするウエハボート。

IPC (5件)：

H01L 21/22 511 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

H01L 21/22 511 G ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 F ,  H01L 21/324 D ,  H01L 21/68 N