特許
J-GLOBAL ID：200903016538334820
口腔用組成物
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三枝 英二 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-196716
公開番号（公開出願番号）：特開2003-081796
出願日： 2002年07月05日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
要約：
【要約】【課題】【解決手段】一般式(1)で示されるスルホコハク酸系界面活性剤の少なくとも1種を0.01〜5重量%、並びに粒径の50百分位数(d50)が5μm以下、粒径の90百分位数(d90)が15μm以下、かつRDA値が120以上であることを特徴とする研磨性沈降シリカを0.5〜10重量%含有することを特徴とする口腔用組成物。一般式(1):【化1】[式中、X1及びX2のいずれか一方がR1O-(AO)n- 又は R1CO-B-(AO)n-であり、他方がM2O-であり、M1およびM2はそれぞれ同一または異なって、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルカノールアミンを表し、R1は炭素数8〜22のアルキル基もしくはアルケニル基、AOは炭素数2〜3のオキシアルキレン基、平均付加モル数nは0〜20、Bは-NH-または炭素数2〜3のモノアルカノールアミン残基を表す。]
請求項（抜粋）：
一般式(1)で示されるスルホコハク酸系界面活性剤の少なくとも1種を0.01〜5重量%、並びに粒径の50百分位数(d50)が5μm以下、粒径の90百分位数(d90)が15μm以下、かつRDA値が120以上であることを特徴とする研磨性沈降シリカを0.5〜10重量%含有することを特徴とする口腔用組成物。一般式(1):【化1】[式中、X1及びX2のいずれか一方がR1O-(AO)n- 又は R1CO-B-(AO)n-であり、他方がM2O-であり、M1およびM2はそれぞれ同一または異なって、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルカノールアミンを表し、R1は炭素数8〜22のアルキル基もしくはアルケニル基、AOは炭素数2〜3のオキシアルキレン基、平均付加モル数nは0〜20、Bは-NH-または炭素数2〜3のモノアルカノールアミン残基を表す。]
Fターム (20件)：
4C083AA112
, 4C083AB102
, 4C083AB171
, 4C083AB172
, 4C083AB242
, 4C083AB292
, 4C083AB472
, 4C083AC122
, 4C083AC132
, 4C083AC432
, 4C083AC782
, 4C083AC791
, 4C083AC792
, 4C083AC812
, 4C083AC862
, 4C083AD042
, 4C083AD272
, 4C083AD392
, 4C083BB41
, 4C083CC41
