特許
J-GLOBAL ID：200903016542747527
超音波ドレッシング方法
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-011731
公開番号（公開出願番号）：特開平5-206089
出願日： 1992年01月27日
公開日（公表日）： 1993年08月13日
要約：
【要約】【目的】研磨剤でウェハを鏡面に仕上げるときに、ウェハと保持パッドや研磨クロス間に研磨剤が侵入するということが起こる。保持パッド、研磨クロス物性の変動原因となり、ウェハ平坦度の品質低下を招く。【構成】水中又は流水中に放置した保持パッド及び/又は研磨クロスに超音波をかけて前記研磨剤を取除くことを特徴とするドレッシング方法。【効果】保持パッド及び研磨クロスを、水中又は流水中に放置し、かつ、超音波をかけてやると、保持パツドや研磨クロスの発泡部の底部に凝集した研磨剤であっても、外部へ放出しやすくなり、研磨剤を容易に取り除くことが可能となる。ブラシングや真空吸着を併用したドレッシングを行なうと、より一層ドレッシングの効率を向上させることができる。
請求項（抜粋）：
半導体ウェハ等のワークの表面を研磨剤を用いて研磨する研磨装置の保持パッド及び/又は研磨クロスを水により清浄化するドレッシング方法であって、水中又は流水中に放置した保持パッド及び/又は研磨クロスに超音波をかけて前記研磨剤を取除くことを特徴とするドレッシング方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 321
, B24B 53/007
