特許
J-GLOBAL ID:200903016544587446

非磁性一成分現像装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 柏谷 昭司 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-010960
公開番号(公開出願番号):特開平11-212353
出願日: 1998年01月23日
公開日(公表日): 1999年08月06日
要約:
【要約】【課題】 非磁性一成分現像装置に関し、リセットローラに対するバイアス効果を減ずることなく、安定な印字を行う。【解決手段】 現像剤担持体1と接触し、且つ、同方向に回転し現像剤担持体1に非磁性現像剤2を供給するリセットローラ5にリセットバイアスを印加するための電極6を、リセットローラ5の表面に接するように設ける。
請求項(抜粋):
表面に非磁性現像剤の薄層を形成して静電潜像担持体上の静電潜像を現像する現像剤担持体、前記現像剤担持体上に形成する非磁性現像剤の薄層の厚さを規制する層厚規制部材、及び、前記現像剤担持体と接触し、且つ、同方向に回転し現像剤担持体に非磁性現像剤を供給するリセットローラとを備えるとともに、前記現像剤担持体に現像バイアスを印加する手段及び前記リセットローラにリセットバイアスを印加する手段を備えた非磁性一成分現像装置において、前記リセットローラの表面に接するようにリセットバイアスを印加するための電極を設けたことを特徴とする非磁性一成分現像装置。
IPC (2件):
G03G 15/08 501 ,  G03G 15/06 101
FI (2件):
G03G 15/08 501 A ,  G03G 15/06 101

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