特許
J-GLOBAL ID:200903016564008035
蒸発のための水を処理する方法および装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
萼 経夫 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-580716
公開番号(公開出願番号):特表2002-529215
出願日: 1999年11月08日
公開日(公表日): 2002年09月10日
要約:
【要約】水蒸気の製造において、特に特別に清浄な水蒸気の製造において、それは主に大気ガスである、給水中に溶解されたガスを除去することが肝要である。流下膜式蒸発器を使用する場合、給水が均等に伝熱面に分配されることは重要である。本発明の方法および装置では、ガスが速やかに分離できる微細な液体粒子として均等に伝熱流路アセンブリの始まり部分に給水を噴霧したとき、水の脱ガスおよび均等な分配を同時に行う。蒸発の工程が速やかに開始するので再溶解の間はない。
請求項(抜粋):
液滴(drop)の噴霧物として水を伝熱面の始まり部分に分配することによって流下膜式蒸発器に水を送る方法であって、水溶性ガスが水から同時に分離されることを特徴とする方法。
IPC (8件):
C02F 1/04
, B01D 1/22
, B01D 1/30
, B01D 19/00
, B05B 1/00
, C02F 1/20
, F22B 37/48
, F22D 1/28
FI (9件):
C02F 1/04 Z
, B01D 1/22 A
, B01D 1/30 A
, B01D 19/00 A
, B01D 19/00 E
, B05B 1/00 Z
, C02F 1/20
, F22B 37/48 B
, F22D 1/28 A
Fターム (31件):
4D011AA12
, 4D011AA20
, 4D011AB01
, 4D011AB02
, 4D011AC01
, 4D011AC02
, 4D011AC04
, 4D034BA03
, 4D034CA17
, 4D034CA19
, 4D037AA01
, 4D037BA23
, 4D037BA24
, 4D037BB06
, 4D076BA12
, 4D076BA24
, 4D076CA03
, 4D076CB02
, 4D076CB03
, 4D076CD24
, 4D076CD43
, 4D076DA04
, 4D076DA35
, 4D076HA01
, 4F033AA00
, 4F033BA04
, 4F033CA01
, 4F033DA01
, 4F033EA01
, 4F033LA01
, 4F033LA11
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
特公昭49-015545
-
特開昭60-257893
審査官引用 (2件)
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特公昭49-015545
-
特公昭49-015545
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