真空装置、及びプラズマディスプレイ装置の製造方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石島茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-328887
公開番号（公開出願番号）：特開2000-156160
出願日： 1998年11月19日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：

【要約】【課題】スループットが高く、高品質のプラズマディスプレイパネルを製造できる真空装置を提供する。【解決手段】プラズマディスプレイ装置を構成させるフロントパネル6を成膜室22内に搬入し、真空雰囲気中でMgO薄膜を形成した後、大気に曝さずに位置合わせ室11内に搬入し、真空雰囲気中で脱ガス処理済みのリアパネル7との間の位置合わせを行う。水分等のガスが吸着せず、薄膜の品質が劣化しない。位置合わせ後、大気に曝さずにエージング処理し、ガス封入及び密封(封着処理)を行うと更にスループットが高くなる。

請求項（抜粋）：

真空雰囲気中で薄膜を形成する成膜室と、プラズマディスプレイ装置を構成させるフロントパネルとリアパネルを真空雰囲気中で相対的に位置合わせできる位置合わせ室とを有し、前記成膜室内で、前記フロントパネルの表面に薄膜を形成した後、大気に曝さずに前記位置合わせ室に搬入し、前記位置合わせ室内で、前記フロントパネルと前記リアパネルとの相対的な位置合わせが行えるように構成された真空装置。

IPC (5件)：

H01J 9/26 , H01J 9/395 , H01J 9/46 , H01J 11/00 , C23C 14/08

FI (5件)：

H01J 9/26 A , H01J 9/395 A , H01J 9/46 A , H01J 11/00 K , C23C 14/08 J

Fターム (27件)：

4K029AA09 , 4K029AA24 , 4K029BA43 , 4K029BA45 , 4K029BA50 , 4K029BB02 , 4K029BC00 , 4K029BC03 , 4K029BC08 , 4K029BC09 , 4K029BD00 , 4K029CA02 , 4K029DB05 , 4K029DB21 , 4K029FA07 , 5C012AA09 , 5C012BC03 , 5C012BC04 , 5C040HA01 , 5C040HA04 , 5C040HA06 , 5C040JA07 , 5C040JA22 , 5C040JA24 , 5C040LA17 , 5C040MA23 , 5C040MA26

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