特許

J-GLOBAL ID：200903016589130641

フェニレン基含有共重合体の製造方法および膜形成材料

発明者： 秋池 利之 ,  今野 圭二 ,  高橋 昌之 ,  後藤 幸平
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 白井 重隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-040997
公開番号（公開出願番号）：特開平11-228674
出願日： 1998年02月09日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 耐熱性、低誘電性、透明性、加工性、密着性に優れ、架橋剤を混ぜて硬化させて用いることにより耐溶剤性に優れた樹脂。【解決手段】 下記一般式(I)で表されるフェニレン基含有化合物50〜95モル%、および下記一般式(II) で表される化合物50〜5モル%を、遷移金属化合物を含む触媒系の存在下に共重合し、フェニレン基含有共重合体を得る。〔式中、Xは2価の有機基、R1 〜R8 は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基など、R9〜R10は-OSO2 Z(ここで、Zはアルキル基、ハロゲン化アルキル基もしくはアリール基を示す)で表される基、R11〜R14は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基など、R15〜R16はハロゲン原子または-OSO2 Z(ここで、Zは上記と同様である)で表される基である。〕

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表されるフェニレン基含有化合物50〜95モル%、および下記一般式(II) で表される化合物50〜5モル%を、遷移金属化合物を含む触媒系の存在下に共重合することを特徴とするフェニレン基含有共重合体の製造方法。【化1】【化2】〔式中、Xは2価の有機基、R1 〜R8 は同一または異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリル基またはアリール基、R9〜R10は-OSO2 Z(ここで、Zはアルキル基、ハロゲン化アルキル基もしくはアリール基を示す)で表される基、R11〜R14は同一または異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、水酸基、1価の反応性有機基またはその前駆体であり、かつそのうちの少なくとも1つは水酸基、1価の反応性有機基またはその前駆体であり、R15〜R16はハロゲン原子または-OSO2 Z(ここで、Zは上記と同様である)で表される基である。〕

IPC (4件)：

C08G 61/02 ,  C09D165/00 ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/768

FI (4件)：

C08G 61/02 ,  C09D165/00 ,  H01L 21/312 A ,  H01L 21/90 S