特許
J-GLOBAL ID：200903016598997879
マイクロ波プラズマCVD装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
奥山 尚男 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-308404
公開番号（公開出願番号）：特開平5-117866
出願日： 1991年10月28日
公開日（公表日）： 1993年05月14日
要約：
【要約】【目的】 マイクロ波によるプラズマへのエネルギー供給効率を向上し、大面積基板に均一な薄膜を形成する。【構成】 反応室内に伝送手段を介してマイクロ波を導入することにより、ガスを励起してプラズマを発生させ、基板上に薄膜を形成する装置において、前記伝送手段を方形導波管と、長さが半波長程度のスリット状の結合孔を複数個設けた共振孔形モード変換部と、前記反応室を収容する円形導波管とから構成し、前記マイクロ波を方形導波管モードから円形導波管の所定のモードに変換するとともに、前記モード変換部と反応室のマイクロ波導入窓との距離を変えることができる構造とする。
請求項（抜粋）：
内部に基板が置かれた反応室にガスを供給すると共に、排気しながら任意のガス圧力に設定し、かつ前記反応室内に伝送手段を介してマイクロ波を導入することにより、前記ガスを励起してプラズマを発生させ、前記基板にダイヤモンドあるいはダイヤモンド状炭素膜(DLC)を形成する装置において、前記伝送手段が、方形導波管と、長さが半波長程度のスリット状の結合孔を複数個設けた共振孔形モード変換部と、前記反応室を内部に収容する円形導波管とから構成され、前記マイクロ波を前記モード変換部を介して、方形導波管モードから円形導波管の所定のモードに変換するとともに、前記モード変換部と反応室のマイクロ波導入窓との距離を変えることができる構造としたことを特徴とするマイクロ波プラズマCVD装置。
IPC (3件)：
C23C 16/50
, C30B 25/02
, C30B 29/04
