特許

J-GLOBAL ID：200903016617574496

レーザ加工用アシストガス供給装置

発明者： 小泉 俊郎
出願人/特許権者： 株式会社アマダ
代理人 (1件)： 三好 秀和 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-247974
公開番号（公開出願番号）：特開平5-084590
出願日： 1991年09月26日
公開日（公表日）： 1993年04月06日
要約：

【要約】【目的】 特別なアシストガス供給源を必要とすることなく、低コストにて安全にレーザ加工用アシストガスをレーザ加工ヘッドに供給すること。【構成】 空気を供給されて空気を酸素ガスと窒素ガスとに分離する多孔質膜構造等の分離装置1を設け、分離装置1より空気を酸素ガスと窒素ガスとに分離し、この分離した酸素ガスあるいは窒素ガスをレーザ加工ヘッド29のアシストガス取入れ口31に供給する。

請求項（抜粋）：

空気を供給されて空気を酸素ガスと窒素ガスとに分離する分離装置と、前記分離装置より酸素ガスをレーザ加工ヘッドのアシストガス取入れ口に選択的に供給する酸素ガス供給通路と、前記分離装置より窒素ガスをレーザ加工ヘッドのアシストガス取入れ口に選択的に供給する窒素ガス供給通路とを有していることを特徴とするレーザ加工用アシストガス供給装置。

IPC (3件)：

B23K 26/14 ,  B01D 53/22 ,  B01D 63/02

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭61-165291
  
• 特開昭61-125422
  
• 特開昭63-229121