特許

J-GLOBAL ID：200903016623052582

プラズマジェットを発生しかつ偏向するための装置

発明者： スィニアギン、オレグ
出願人/特許権者： アイペック・プリシジョン・インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-542975
公開番号（公開出願番号）：特表2000-511344
出願日： 1997年05月30日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：

【要約】発生したプラズマジェットの効果的な偏向を可能とするプラズマジェットジェネレータ装置を開示する。この装置は、ガス入口および出口を有する電極チャンバと、この電極チャンバ内に配置されて電極軸線を形成する電極とを有する。電極チャンバ出口から流出すろプラズマの方向を電極軸線に対して偏向するために、一対の磁界偏向システムが設けられる。磁界偏向システムは、U字状部材から形成され、電極チャンバの回りに配分される。磁界偏向システムは、プラズマを電極軸線から離隔させるように、プラズマに2つの偏向力を作用させることができる。

請求項（抜粋）：

ガス入口および出口を有する電極チャンバと、 この電極チャンバ内に配置され、電極軸線を形成する電極と、 電極チャンバから流出するプラズマに第1変更力を作用させ、プラズマを電極軸線から離隔させて第1方向に流す第1磁界偏向システムとを備え、この第1磁界偏向システムは、第1ベース部と端部を持つ第1対のポールとベース部の回りに配置される第1コイルとから形成された第1U字状部材を備え、この第1磁界偏向システムは、電極部材内に配置された電極で形成される電極軸線の両側に第1ポールが配置されるように電極チャンバの回りに配置され、更に、 電極チャンバから流出するプラズマに第2偏向力を作用させ、プラズマを電極軸線から離隔させて第2方向に流す第2磁界偏向システムを備え、この第2磁界偏向システムは、第2ベース部と端部を持つ第2対のポールとベース部の回りに配置されたコイルとから形成された第2U字状部材を備え、この第2磁界偏向システムは、電極部材内に配置された電極で形成される電極軸線の両側に第2ポールが配置されるように、電極チャンバの回りに配置される、 プラズマジェットを発生しかつ偏向するためのプラズマジェネレータ。

IPC (3件)：

H05H 1/40 ,  H05H 1/44 ,  H05H 1/42

FI (3件)：

H05H 1/40 ,  H05H 1/44 ,  H05H 1/42