特許

J-GLOBAL ID：200903016626682080

ゲルマニウム、ゲルマニウム含有化合物のクリーニング方法

発明者： 毛利 勇 ,  藤井 正 ,  小林 義幸
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 坂本 栄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-183615
公開番号（公開出願番号）：特開平6-025662
出願日： 1992年07月10日
公開日（公表日）： 1994年02月01日
要約：

【要約】【目的】薄膜形成装置、該装置の部品・治具、配管等に付着、堆積したゲルマニウム、ゲルマニウム含有化合物を除去する。【構成】該化合物とClF3 ガスあるいはF2 ガスを接触反応させる。

請求項（抜粋）：

ゲルマニウムを添加したシリコンまたはシリコン化合物の薄膜およびゲルマニウムまたはゲルマニウム化合物の薄膜を製造する装置、該装置の治具・部品、配管に堆積した該化合物をClF3 ガスあるいはF2 ガスと反応除去することを特徴とする該化合物のクリーニング方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭64-017857
  
• 特開平1-077579
  
• 特開平3-219080
  
• 特開平3-127830