特許
J-GLOBAL ID：200903016626714772
成形型およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-331597
公開番号（公開出願番号）：特開2001-150451
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
要約：
【要約】【課題】 従来の成形型は、成形面にパターン欠損を発生する可能性が高く、耐久性および離型性共に良好ではなかった。【解決手段】 本発明によると成形型の製造方法は、成形型17となる支持体11の表面にレジスト密着強化層を形成するステップと、このレジスト密着強化層の表面にレジスト層を積層するステップと、このレジスト層に所定形状の成形面を形成するステップと、この成形面の輪郭形状を維持しつつ前記レジスト層および前記レジスト密着強化層および前記支持体11の一部を除去し、前記支持体11のみによる成形面15′を形成するステップと、この支持体11の成形面15′を紫外線透過性離型層16で被覆するステップとを具える。
請求項（抜粋）：
成形面が表面に形成された紫外線透過性支持体と、この支持体の成形面を被覆する紫外線透過性離型層とを具えたことを特徴とする成形型。
IPC (3件)：
B29C 33/38
, B29C 33/60
, B29L 11:00
B29C 33/38
, B29C 33/60
, B29L 11:00
4F202AA44
, 4F202AH74
, 4F202AJ01
, 4F202AJ09
, 4F202AJ11
, 4F202CB01
, 4F202CD02
, 4F202CD24
, 4F202CD25
