特許
J-GLOBAL ID：200903016641307067
イオン注入装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-052931
公開番号（公開出願番号）：特開平6-243815
出願日： 1993年02月18日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：
【要約】【目的】 ファラデー系内でディスク上のウェーハに付着するパーティクルを簡単に低減することができるようにしたイオン注入装置を提供する。【構成】 ファラデーカップ12の周りをディスク4の表面近傍でディスク4に対向して取り囲むリング状の集塵電極30を、サイドサプレッサ電極16の外側に設けた。この集塵電極30には、集塵電源32によって、ファラデーカップ12ひいてはそれに電気的に接続されたディスク4に対して正の電圧が印加される。
請求項（抜粋）：
注入室内で回転および並進させられるディスクであってその周縁部に複数枚のウェーハを装着可能なものを備え、イオンビームをこのディスク上のウェーハに照射して各ウェーハにイオン注入を行うイオン注入装置において、前記ディスクのウェーハ装着側の表面近傍であってウェーハに対するイオンビーム照射領域のディスク回転方向側の近傍に、ディスクに対向するように、ディスクに対して正の電圧が印加される集塵電極を設けたことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (3件)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, H01L 21/265
