特許

J-GLOBAL ID：200903016650080636

研磨粒子含有廃液の処理方法および装置

発明者： 川元 淳 ,  宮澤 和浩
出願人/特許権者： 日本酸素株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-067591
公開番号（公開出願番号）：特開2000-254645
出願日： 1999年03月12日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：

【要約】【課題】 処理水量の低下を防ぐことができる研磨粒子含有廃液の処理方法を提供する。【解決手段】 凝集槽1内の研磨粒子含有廃液に、無機凝集剤供給手段2からの無機凝集剤を添加し廃液中の研磨粒子を凝集させる凝集工程と、この凝集工程によって得られた凝集物を膜分離手段4においてクロスフロー方式により膜分離する膜分離工程を有する処理方法。

請求項（抜粋）：

研磨粒子含有廃液に無機凝集剤を添加し廃液中の研磨粒子を凝集させる凝集工程と、この凝集工程によって得られた凝集物をクロスフロー方式により膜分離する膜分離工程を有することを特徴とする研磨粒子含有廃液の処理方法。

IPC (4件)：

C02F 1/44 ZAB ,  B01D 21/01 102 ,  C02F 1/52 ,  B01D 29/25

FI (4件)：

C02F 1/44 ZAB K ,  B01D 21/01 102 ,  C02F 1/52 K ,  B01D 29/30 520 B

Fターム (72件)：

4D006GA02 ,  4D006HA22 ,  4D006JA25B ,  4D006JA25C ,  4D006KA02 ,  4D006KA03 ,  4D006KA63 ,  4D006KA72 ,  4D006KB11 ,  4D006KB13 ,  4D006KB30 ,  4D006KC03 ,  4D006KD08 ,  4D006KE02P ,  4D006KE05P ,  4D006KE07Q ,  4D006KE11R ,  4D006KE12P ,  4D006KE15Q ,  4D006KE28P ,  4D006MA02 ,  4D006MA31 ,  4D006MA33 ,  4D006MA40 ,  4D006MC02 ,  4D006MC04 ,  4D006MC11 ,  4D006MC23 ,  4D006MC48X ,  4D006MC55 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PB20 ,  4D006PB23 ,  4D006PC01 ,  4D015BA04 ,  4D015BA19 ,  4D015BB05 ,  4D015CA20 ,  4D015DA04 ,  4D015DA05 ,  4D015DA08 ,  4D015DA13 ,  4D015DA15 ,  4D015DA16 ,  4D015DA19 ,  4D015DC02 ,  4D015DC04 ,  4D015EA37 ,  4D015FA02 ,  4D015FA17 ,  4D015FA19 ,  4D015FA22 ,  4D062BA04 ,  4D062BA19 ,  4D062BB05 ,  4D062CA20 ,  4D062DA04 ,  4D062DA05 ,  4D062DA08 ,  4D062DA13 ,  4D062DA15 ,  4D062DA16 ,  4D062DA19 ,  4D062DC02 ,  4D062DC04 ,  4D062EA04 ,  4D062EA37 ,  4D062FA02 ,  4D062FA17 ,  4D062FA19 ,  4D062FA22