特許

J-GLOBAL ID：200903016653161165

ホログラフィック光学素子の製造における露光方法及び露光装置

発明者： 小林 恭 ,  遠藤 毅
出願人/特許権者： ミノルタ株式会社
代理人 (1件)： 佐野 静夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-059517
公開番号（公開出願番号）：特開2002-258488
出願日： 2001年03月05日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】 複雑な波面再生が可能なホログラフィック光学素子を簡単な構成で容易に量産することができる露光方法及び露光装置を提供する。【解決手段】 媒質内の3次元的光強度分布を媒質の3次元的屈折率分布として記録することのできるホログラム感光材料(3)を、単一の透明基板(2)に貼り付けて保持し、ホログラム感光材料(3)に対し互いに干渉性の高い2つの光束を対向方向から照射することにより干渉縞を露光記録する。2つの光束とは、1つのピンホール光源(1)からホログラム感光材料(3)に照射される光束と、その光束が透明基板(2)とホログラム感光材料(3)を透過した後に、互いに偏心した2つの反射面(S1,S2)を含む露光光学系(4)を介して、再びホログラム感光材料(3)に照射される光束と、の2つである。

請求項（抜粋）：

媒質内の3次元的光強度分布を媒質の3次元的屈折率分布として記録することのできるホログラム感光材料を、単一の透明基板に対し層状に塗布し若しくは貼り付け又は2つの透明基板に挟むことにより保持し、そのホログラム感光材料に対し、互いに干渉性の高い2つの光束を対向方向から照射することにより干渉縞を露光記録する、体積型反射ホログラフィック光学素子の製造における露光方法であって、前記2つの光束とは、1つの光源から前記ホログラム感光材料に照射される光束と、その光束が前記透明基板及びホログラム感光材料を透過した後に、互いに偏心した少なくとも2つの反射面を含む露光光学系を介して、再び前記ホログラム感光材料に照射される光束と、の2つであることを特徴とする露光方法。

IPC (5件)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 505 ,  G02B 5/32 ,  G03H 1/02 ,  G03H 1/26

FI (5件)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 505 ,  G02B 5/32 ,  G03H 1/02 ,  G03H 1/26

Fターム (21件)：

2H049CA05 ,  2H049CA22 ,  2H049CA28 ,  2H049CA30 ,  2H097AA03 ,  2H097AA13 ,  2H097BA10 ,  2H097CA17 ,  2H097EA12 ,  2H097FA01 ,  2H097LA17 ,  2K008AA14 ,  2K008BB03 ,  2K008BB04 ,  2K008DD13 ,  2K008EE04 ,  2K008FF01 ,  2K008FF17 ,  2K008HH03 ,  2K008HH18 ,  2K008HH26