特許

J-GLOBAL ID：200903016653193768

ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法

発明者： 椿 英明 ,  岩戸 薫 ,  児玉 邦彦
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-240241
公開番号（公開出願番号）：特開2007-057604
出願日： 2005年08月22日
公開日（公表日）： 2007年03月08日
要約：

【課題】ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。さらに、パターンプロファイル、露光ラチチュードに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増加する樹脂及び(C)特定のラクトン構造を有する低分子化合物を有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (B)酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増加する樹脂及び (C)下記一般式(C1)で表されるラクトン構造を有する低分子化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-289854   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 米国特許第6627391B号明細書