特許

J-GLOBAL ID：200903016681835422

エタンとベンゼンから直接スチレンを製造する方法

発明者： 藤井 雄一
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-004178
公開番号（公開出願番号）：特開平11-199527
出願日： 1998年01月12日
公開日（公表日）： 1999年07月27日
要約：

【要約】【課題】 従来のスチレンモノマー製造法の問題点を解決し、ベンゼン、エタンから直接高選択率でスチレンモノマーを製造する方法を提供する。【解決手段】 エタンとベンゼンとを触媒存在下で反応させスチレンモノマーを製造するにあたり、水素分離膜で水素除去手段が付与された膜型反応器を使用するスチレンモノマーの製造方法。

請求項（抜粋）：

エタンとベンゼンとを触媒存在下で反応させスチレンモノマーを製造する方法において、該反応を、水素分離膜で水素除去手段を付与した膜型反応器で行うことを特徴とするスチレンモノマーの製造方法。

IPC (5件)：

C07C 15/46 ,  B01J 29/46 ,  C07C 2/76 ,  C07C 7/144 ,  C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07C 15/46 ,  B01J 29/46 X ,  C07C 2/76 ,  C07C 7/144 ,  C07B 61/00 300