薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-140844
公開番号（公開出願番号）：特開平11-339222
出願日： 1998年05月22日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：

【要約】【課題】磁気ヘッド素子形成時において、高密度記録を得るため、狭トラック幅加工を、高歩留まりで実施する。【解決手段】磁気ヘッドのライト用ヘッドのメッキフレーム(5)を形成する際、メッキフレームをドライエッチによりエッチングし、エッチングの際生じるめっき下地(3)のエッチングを回避し、段差下部のエッチ残査の発生を防ぐため、めっき下地(3)とめっきフレーム間にストッパ膜を成膜する。

請求項（抜粋）：

薄膜磁気ヘッドの磁気コアをフレームめっき法で作成する方法に於いて、めっき下地膜上にストッパ膜を形成し、その上にフレームレジストパターンを設け、めっきする部分のみのストッパ膜を除去し、フレームレジストパターンをマスクにストッパ膜を除去した部分のめっき下地膜上に磁性膜をめっきする事を特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

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