特許

J-GLOBAL ID：200903016705083524

半導体材料を保護するための装置および方法

発明者： ディルク フロットマン ,  ゲールハルト アスト ,  ラインハルト ヴォルフ
出願人/特許権者： ワツカー-ケミー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-289359
公開番号（公開出願番号）：特開2000-128693
出願日： 1999年10月12日
公開日（公表日）： 2000年05月09日
要約：

【要約】【課題】 半導体材料を保護するための装置および方法を提供する。【解決手段】 半導体材料が、超純水と半導体粒子とからなる安定した氷からなる表面上に存在する。【効果】 半導体材料の汚染が回避される。

請求項（抜粋）：

半導体材料を保護するための装置において、半導体材料が、超純水と半導体粒子とからなる安定した氷からなる表面上に存在することを特徴とする、半導体材料を保護するための装置。

IPC (3件)：

C30B 29/06 ,  B02C 19/18 ,  H01L 21/208

FI (3件)：

C30B 29/06 D ,  B02C 19/18 Z ,  H01L 21/208 Z